最簡單的介紹光學鍍膜
作者：fr 發布日期：2018-06-15 20:14
什麽(me) 是光學鍍膜：
光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為(wei) 了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。
光學鍍膜原理：
1-1真空鍍膜真空鍍膜：真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進行的塗料，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等多種塗料，所以。蒸發和濺射有兩(liang) 種主要類型。將被鍍材料製成基材，將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處於(yu) 與(yu) 靶相同的真空中。
蒸發塗層通常是加熱目標，以使表麵組分以自由基或離子的形式蒸發，並通過成膜方法（散射島結構 - 梯形結構 - 層狀生長）沉積在基材的表麵上，薄膜。
1-3對於(yu) 濺射狀塗層，很容易理解目標材料是用電子或高能激光器轟擊的，表麵組分以自由基或離子的形式濺射，最後沉積在基底表麵上最終形成一部薄膜。
常見的光學鍍膜材料有以下幾種：
1、氟化鎂材料特點：無色四方晶係粉末，純度高，用其製備光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。
2、二氧化矽材料特點：無色透明晶體(ti) ，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其製備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為(wei) 紫外、紅外及可見光用。
3、氧化鋯材料特點 白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質穩定，純度高，用其製備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點
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